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                                       掃描電鏡SEM檢測(cè)      SEM-EDS分析



掃描電鏡SEM檢測(cè)

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掃描電子顯微鏡是目前常見(jiàn)的用于表面形貌觀(guān)察的分析技術(shù)。具有高分辨率,較高的放大倍數(shù);景深效果好,視野大,成像富有立體感,可直接觀(guān)察各種試樣凹凸不平表面的細(xì)微結(jié)構(gòu);試樣制備簡(jiǎn)單;配有X射線(xiàn)能譜儀裝置,可同時(shí)進(jìn)行形貌觀(guān)察和微區(qū)成分分析。


通過(guò)掃描電子顯微鏡觀(guān)察材料表面形貌,為研究樣品形態(tài)結(jié)構(gòu)提供了便利,有助于監(jiān)控產(chǎn)品質(zhì)量,改善工藝。


觀(guān)察的主要內(nèi)容是分析材料的幾何形貌、材料的顆粒度、及顆粒度的分布、物相的結(jié)構(gòu)等。


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SEM電鏡測(cè)試應(yīng)用范圍

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主要用于復(fù)合材料、陶瓷材料、金屬材料、高分子材料、生物材料、電子材料等塊體、片狀、薄膜樣品的微觀(guān)形貌分析及其成份的定性、半定量分析。

(1)材料范圍:除磁性材料之外的任何無(wú)機(jī)材料,包括粉體、薄膜和塊材;不適用于有機(jī)和生物材料。

(2)表征范圍:微觀(guān)形貌、顆粒尺寸、微區(qū)組成、元素分布、元素價(jià)態(tài)和化學(xué)鍵、晶體結(jié)構(gòu)、相組成、結(jié)構(gòu)缺陷、晶界結(jié)構(gòu)和組成等。


SEM掃描電鏡檢測(cè)示例

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SEM電鏡測(cè)試


SEM/EDS設(shè)備展示

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SEM電鏡測(cè)試

SEM電鏡測(cè)試


送樣須知

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粉末樣品基本要求

    (1)單顆粉末尺寸建議小于1μm;

    (2)無(wú)磁性;

    (3)以無(wú)機(jī)成分為主,否則會(huì)造成電鏡嚴(yán)重的污染,高壓跳掉,甚至擊壞高壓槍?zhuān)?/span>

塊狀樣品基本要求

   (1)需要電解減薄或離子減薄,獲得幾十納米的薄區(qū)才能觀(guān)察;

   (2)如晶粒尺寸小于1μm,也可用破碎等機(jī)械方法制成粉末來(lái)觀(guān)察;

   (3)無(wú)磁性;


我們的優(yōu)勢(shì)

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實(shí)力

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設(shè)立了無(wú)損檢測(cè)、掃描電鏡儀器分析、化學(xué)分析、物理分析、切片與金相測(cè)試,環(huán)境

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實(shí)驗(yàn)室以中科院自動(dòng)化研究所、北京航天航空大學(xué)為依托,以具備豐富產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗(yàn)的本

地團(tuán)隊(duì)為主體,開(kāi)展電子可靠性前沿基礎(chǔ)研究、應(yīng)用推廣、失效分析、設(shè)計(jì)改善,提

升粵港澳大灣區(qū)電子產(chǎn)業(yè)可靠性水平。







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