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鎳鈦基材/鍍膜基層掃描分析

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樣品描述:

鍍膜樣品1個

檢測目的:

檢測鎳鈦合金鍍膜層(C、Si、Ni、Ti)變化趨勢。

檢測方法:

ASTM E827-08 :由AES峰判別元素的標準規范;

ASTM E1078- 14(20):表面分析中樣品準備和安裝的標準指南;

ASTM E1829- 14(20):表面分析前樣品處理的標準指南;

ASTM E996- 19 :AES和XPS數據報告的標準規范;

ASTM E1127-08(15):AES分析元素層深分布的標準指南.

檢測儀器:

儀器信號:PHI 710 AES

電子槍:電子束電壓:5kV;電子束電流:10nA.

離子槍:濺射電壓:2kV;濺射面積:1mmx1mm

相對SiO2濺射速率:29. 7 nm/min

檢測結果: 

注：圖片均來自華南檢測實驗室，未經容許不可轉載，盜用必究！